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單波長X熒光硅含量分析儀的原理及優(yōu)勢介紹
單波長X熒光硅含量分析儀的原理及優(yōu)勢介紹
更新時間:2022-10-18 | 點擊率:687
單波長X熒光硅含量分析儀
是由低功率X射線管發(fā)射的多波長X射線螢光,由雙曲面彎晶光學(xué)元件捕獲并聚焦,照射一個具有合適波長的單色X射線,可以激發(fā)樣品盒中被測樣品上硅元素K層中的電子,形成一個小點。單色主光束激發(fā)樣品并發(fā)射次級特征熒光X射線。只有波長為0.713nm的K被硅元素激發(fā),通過第二雙曲彎曲晶體光學(xué)元件收集,通過適當?shù)臋z測器測量X射線熒光,然后使用校準方程轉(zhuǎn)換為被測樣品中的硅含量。
單波長X熒光硅含量分析儀的工作原理:
低功率X射線管發(fā)出的多波長X射線熒光被雙曲面彎曲晶體光學(xué)元件捕獲并聚焦,并將波長合適的能夠激發(fā)硅元素K層電子的單色X射線照射在樣品盒中的被測樣品上,形成一個小點。單色主光束激發(fā)樣品并發(fā)射次級特征熒光X射線。只有波長為0.713nm的K被硅元素激發(fā),通過第二雙曲彎曲晶體光學(xué)元件收集,通過適當?shù)臋z測器測量X射線熒光,然后使用校準方程轉(zhuǎn)換為被測樣品中的硅含量。
單波長X熒光硅含量分析儀的產(chǎn)品優(yōu)勢:
1、樣品制備和儀器操作過程簡單,檢測速度快,分析時間300秒;
2、無樣品損失或轉(zhuǎn)化,無耗氣量,高溫操作;
3、直接檢測,無需樣品預(yù)處理;超低維護和更少校準頻率;
4、體積小,可放置在任何實驗室,即插即用;樣品杯膜無接觸和切割;
5、單波長X射線熒光硅分析儀配有標準工作站,可以有更多的數(shù)據(jù)存儲空間,同時實現(xiàn)LIMS功能;
6、分析儀中沒有運動部件;標準的12位自動取樣器可以真正提高效率。
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